| 質量範囲 | 300、510、1000 または 2500m/z |
| イオン分析 | 正負イオン |
| ガス分析 | 中性粒子とラジカル |
| プラズマ圧力(標準) | 最大0.5mbar |
| プラズマ圧力(オプション) | 最大2mbar、100mbarおよび大気圧 |
| サンプリングオプション | DCおよびRFバイアスされたサンプリング電極 |
| イオンエネルギー解析範囲 | ±100eV または ±1000eV |

| 質量範囲 | 300、510、1000 または 2500m/z |
| イオン分析 | 正負イオン |
| ガス分析 | 中性粒子とラジカル |
| プラズマ圧力(標準) | 最大0.5mbar |
| プラズマ圧力(オプション) | 最大2mbar、100mbarおよび大気圧 |
| サンプリングオプション | DCおよびRFバイアスされたサンプリング電極 |
| イオンエネルギー解析範囲 | ±100eV または ±1000eV |