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GAS ANALYSIS

ガス分析

QGA2.0
モデルQGA2.0定量ガス分析計は、大気中ガスおよび蒸気成分を継続的かつリアルタイムに定量分析するように構成されています。インレットオプションを別途使用することで、低圧から高圧まで30 barのシステムも構成可能です。
HIDEN ANALYTICAL社 モデルHPR-20 R&D スペシャリストガス分析システムは、発生ガスと蒸気成分の高速モニタリングを目的とした卓上質量分析計です。
HIDEN ANALYTICAL社モデルHPR-20 EGAガス分析システムは、熱重量分析計(TGA)からの発生ガスおよび蒸気成分のリアルタイム分析を目的として構成されています。
HIDEN ANALYTICAL社のキャピラリーインレット付ガス分析計には、一般的なTGA装置のための高速レスポンス、低デッドボリューム用のインターフェースが装備されています。
Hiden QIC BioStreamは、0.1 PPM〜100%の濃度範囲で発生ガスと蒸気成分のリアルタイム検出を可能にするマルチストリームガス組成分析システムです。 サンプル流量は毎分4ml〜10Lのガスフローで成分分析が可能です。当システムは、発酵プロセスのオフガス分析、バイオガスプロセスモニタリング、バイオ酵素生産など、さまざまな研究用途で使用頂けます。
モデル QIC MultiStreamは、マルチストリームガス成分分析システムです。毎分4ml〜10Lの流量でガスフローを分析することができます。このシステムは、マルチコンポーネント、マルチストリームガス分析が必要な環境モニタリングなどの使用例に適しています。
Hiden HPR-20 TMS Transient MSは、大気圧付近でのガス成分と蒸気成分の高速反応ガス分析に適しています。0.9mのシリカクオーツキャピラリーインターフェースでサンプル採取を行うことで、分析対象ガスを素早く交換し、分析することが可能です。
HPR-40-MIMS
モデルHPR-40 MIMSは、溶存ガスおよび揮発性化合物の直接かつリアルタイムな分析を行うための、コンパクトな卓上型質量分析計です。交換可能な膜式インレットにより、地下水、海水、廃水、スラリー、発酵培養液、密閉サンプル、ヘッドスペースなどの分析に対応しています。
モデル HPR-60 分子ビーム質量分析計は、大気プラズマおよび反応ガス中間反応体向け、小スキマー型インレット質量分析計です。
HPR40-DEMS
モデルHPR-40 DEMSは、電気化学研究におけるガスおよび揮発性物質のその場でのリアルタイム分析のために開発された実験用質量分析システムです。燃料電池の診断、CO₂還元、触媒評価、腐食研究、酸素還元反応(ORR)、および電池研究などの用途向けに設計されています。このシステムは、反応経路や生成物の選択性に関する正確かつ即時のデータを研究者に提供します。
HPR20-OEMS
モデルOEMS用Hiden HPR-20は、電気化学において発生するガスおよび蒸気を、印加電位をパラメータとしてリアルタイムで連続分析するように構成されたガス分析システムです。
pQA
モデルpQA ポータブル四重極質量分析計は、膜インレット式質量分析法を河川敷、船舶、移動式実験室、その他の現場環境に導入します。堅牢で持ち運びやすいケース、12 Vでの動作、および交換可能なインレットにより、地下水や環境試料中の溶存ガスや揮発性物質の定量測定が可能です。
HPR20-DLS
モデル HPR-20 DLSは、水素同位体、ヘリウム同位体、および質量差の小さいその他の同位体を高分解能で測定するために設計された、連続式ガス・蒸気分析システムです。このシステムは、加熱式大気圧サンプリングインレットと、Hiden社のDLS-20デュアルゾーン四重極質量分析計を組み合わせたものです。
HPR20-EPIC
モデル HPR-20 EPICガス分析システムは、標準仕様では大気圧に近い圧力下でのガスおよび蒸気の連続分析に対応しており、30 barまでの高圧環境からの直接サンプリングを必要とする用途向けに、代替のインレットシステムも提供されています。
HPR20-S1000
モデル HPR-20 S1000ガス分析システムは、標準仕様では大気圧に近い圧力下でのガスおよび蒸気の連続分析に対応しており、30 barまでの高圧環境からの直接サンプリングを必要とする用途向けに、代替のインレットシステムも提供されています。

CATALYSIS AND THERMAL ANALYSIS

触媒および熱分析

モデルCATLAB-PCSは、触媒特性と1000℃までの熱反応研究を目的とした、マイクロリアクター複合質量分析計システムです。
CATLAB-FBは、最大1000°Cまでの温度で触媒コア試料を分析するための炉と質量分析計を組み合わせたシステムであり、マルチストリームによるガス/蒸気の流量制御機能に加え、供給ガスおよび下流ガスの両方の質量分析機能を備えています。
モデルSpaciMSは水平軸と直角軸にガス種判定と温度分布を分析表示します。その際、高空間・高時間分解能でサンプル流量とその温度に関係なく分析できます。16チャンネルのマルチインレットはHIDEN ANALYTICAL社の高速トランジェントMSに接続されており、自動で温度分布とガス種分布を高速マッピングします。
TDSLab-6
モデル TDSLab Seriesは、熱脱着技術の最先端をいく製品であり、さまざまな用途に合わせたカスタマイズされたソリューションを提供します。研究分野や産業分野において、高精度、高い信頼性、そして汎用性を兼ね備えています。
Hidenの3F PICシリーズ四重極は、UHV TPDアプリケーションで最高の感度と時間分解能を実現するデジタル検出器を備えた高精度トリプルフィルターアナライザです。

THIN FILMS, PLASMA AND SURFACE ENGINEERING

薄膜・プラズマ・表面工学

HPR-30-Multi-RGA-Cart
モデルHPR-30シリーズは、真空プロセスにおけるガスや蒸気の分析、および高真空から大気圧までのサンプリング機能を備えた真空診断用に構成された残留ガス分析システムです。本システムは、CVD、ALD、プラズマエッチング、MOCVD、プロセスガスの純度測定、およびプロセス中の汚染物質モニタリングなど、個々のプロセス用途に合わせて完全にカスタマイズ可能です。
HIDEN ANALYTICAL社 モデルCompact SIMSは、層構造、表面汚染、不純物の迅速かつ容易なキャラクタリゼーションを目的として設計されており、正イオンの敏感な検出が酸素プライマリーイオンビームによって補助され、周期表全体にわたって同位体感度を提供します。提供するイオンソースの形状は、ナノメートルの深さ分解能および表面近傍分析に理想的です。
モデル HPR-60 分子ビーム質量分析計は、大気プラズマおよび反応ガス中間反応体向け、小スキマー型インレット質量分析計です。
TDSLab-6
モデル TDSLab Seriesは、熱脱着技術の最先端をいく製品であり、さまざまな用途に合わせたカスタマイズされたソリューションを提供します。研究分野や産業分野において、高精度、高い信頼性、そして汎用性を兼ね備えています。
EQP_Compilation
モデル EQPシリーズは、分析用のプラズマイオン、中性粒子およびラジカルのための質量分析計とエネルギー分析器を組み合わせたものです。EQP機器は、正イオンおよび負イオン分析のための操作モードを含む。閾値電離および電子付着イオン化モードは、電気陽性および陰性プラズマラジカルの両方の分析のための詳細な中性ラジカル研究に利用可能です。 モデルEQPシステムは、オプションで、50ナノ秒までの時間分解能を備えた統合型MCS - マルチチャネルスカラーデータ収集で利用可能になり、パルスプラズマアプリケーションでの高速データ収集が可能になりました。
HIDEN ANALYTICAL社 プラズマプローブ モデルPSMは、重要なプラズマパラメータを測定し、プラズマ反応化学に関する詳細な情報を取得可能です。
AutoSIMS
HIDEN ANALYTICAL社は、完全自立型の自動表面分析システム「AutoSIMS」を開発しました。これは、無人運転で日常的かつ反復的な分析を実行できる革新的な二次イオン質量分析計(SIMS)です。完全自動化されたX-Yステージと拡張ホルダーを備えたハイデンのAutoSIMSは、24時間365日の連続運転により、1日に数百件の処理を実行することができます。
SIMS-Workstation
HIDEN ANALYTICAL社は、高性能な動的および静的SIMS(二次イオン質量分析法)分析のための、極めて汎用性の高い高感度分析装置を提供しており、最先端のアプリケーションにおいて新たなレベルの精度を実現します。測定範囲が拡大され、正(+ve)イオンと負(-ve)イオンの両方を取得・同定できるこのSIMSワークステーションは、組成分析および深さプロファイリング用途向けの包括的なソリューションです。
HMT
モデルHMT 四重極質量分析計は、差動排気装置を必要とせずに最大5×10-3mbarの圧力下で動作可能な、独自のデュアルモードRGAシステムです。この圧力下での動作は、特別に設計されたイオン源と四極子フィルターの組み合わせ、およびイオン存在比の非線形性を補正するソフトウェアによって実現されています。この独自の高圧力仕様により、HMTはプロセスモニタリング用途に最適です。
ESPion
モデルESPion ラングミュアプローブプローブによるI-Vプラズマ特性の定期的なモニタリングは、プラズマの安定性や再現性に関する直接的な情報を提供します。プラズマパラメータの自動リアルタイム外挿により、特性評価や均一性モニタリングに活用できる、プラズマ特性に関する詳細な情報が得られます。
IMP
モデルIMP-EPDは、イオンビームエッチング、いわゆるイオンミリングプロセスから発生する二次イオンを直接検知し、エンドポイントを検出する機能を持たせた、二次イオン質量分析計です。差動排気方式を採用しています。本システムには、最適なプロセス制御のために開発されたプロセス固有のアルゴリズムを搭載した統合ソフトウェアが含まれています。
EP-Replayer
モデルEP-Replayer を使用すると、IMP-EPD ユーザーは過去のエッチングデータを再生でき、エンドポイントレシピの作成と最適化に役立ちます。アルゴリズムレシピテンプレートで変数を定義することで、ユーザーはエンドポイント検出をリアルタイムでシミュレーションし、微調整を行うことができます。
XBS
モデル分子ビーム源では、再現性のある高品質な薄膜成長を実現するために、正確な制御が求められます。ハイデンのXBS(クロスビームソース)システムは、複数のビーム源をその場でモニタリングし、リアルタイムの信号出力を通じて成膜を精密に制御します。ハイデンのXBSは、分子ビーム質量分析法において活用される優れたツールです。
ToF-qSIMS-Workstation
モデルTOF-qSIMSシステムは、ポリマー、医薬品、超伝導体、半導体、合金、光学・機能性コーティング、誘電体など、幅広い材料の表面分析および深さプロファイリング用途向けに設計されており、微量成分をサブppmレベルまで測定可能です。
eqs
Hiden Analytical社は、定評のあるHiden EQSをはじめ、イオン分析のための世界トップクラスの質量分析ソリューションと革新的なツールを提供しています。この高透過型静電四重極二次イオン質量分析計(SIMS)は、研究規模の薄膜・ナノスケール表面分析において、当社で最も人気のある検出システムの1つです。EQS SIMSアナライザーは、XPSおよび集束イオンビーム(FIB)顕微鏡システムに最適なアドオンアナライザーです。
SIMS
Hiden社のMAXIM 4重SIMS分析装置は、正・負イオン、静的・動的および中性イオン分析アプリケーションに対応した最先端の二次イオン質量分析計です。 MAXIM分析システムには、プローブ軸に対して30°の角度でイオンを受け入れる内蔵エネルギーフィルター、高透過率のSIMS抽出光学系、3重質量フィルター、パルスイオン計数検出器、および制御電子機器が含まれています。
IG5C
モデルIG5Cは、低消費電力かつ高輝度の表面イオン化源とコンパクトなイオンカラムを組み合わせたもので、小型筐体でありながら高い性能を発揮します。このイオンガンは、動的、静的、およびイメージングを含むあらゆるSIMS用途における一次イオンビームとして設計されています。
IG20
モデルIG20は、高輝度の電子衝撃式ガスイオン源を搭載しており、特に酸素対応を目的に設計されていますが、不活性ガスやその他のガスとの併用にも適しています。

RESIDUAL GAS ANALYSIS

残留ガス分析

RGA
すべてのHIDEN ANALYTICAL社 残留ガス分析計は、アプリケーションテストと校正を行い、最高品質の性能を提供しております。
HMT
モデルHMT 四重極質量分析計は、差動排気装置を必要とせずに最大5×10-3mbarの圧力下で動作可能な、独自のデュアルモードRGAシステムです。この圧力下での動作は、特別に設計されたイオン源と四極子フィルターの組み合わせ、およびイオン存在比の非線形性を補正するソフトウェアによって実現されています。この独自の高圧力仕様により、HMTはプロセスモニタリング用途に最適です。
XBS
モデル分子ビーム源では、再現性のある高品質な薄膜成長を実現するために、正確な制御が求められます。ハイデンのXBS(クロスビームソース)システムは、複数のビーム源をその場でモニタリングし、リアルタイムの信号出力を通じて成膜を精密に制御します。ハイデンのXBSは、分子ビーム質量分析法において活用される優れたツールです。
HALO
モデルHALO 残留ガス分析装置(RGA)は、日常的な真空モニタリング、チャンバーのフィンガープリント分析、リーク検出、および傾向分析を目的として設計されています。残留ガスや蒸気をリアルタイムで追跡し、ユーザーが空気漏れ、水蒸気、炭化水素、その他の潜在的な汚染物質を特定できるよう支援します。
RGA-Sources
Hiden社は、圧力、試料形状、ガス化学特性に合わせて残留ガス分析装置を構成できるよう、交換可能な電子衝撃型および用途特化型のイオン源を提供しています。これらのオプションは、日常的な残留ガス分析(RGA)作業、UHV脱着、高圧サンプリング、分子ビーム、反応性ガス、および低アウトガス測定に対応しています。
cropped-RGA
UHV用RGAは、ビームライン、粒子加速器、シンクロトロン、およびUHV環境下での厳密な測定が求められるその他の用途など、過酷なUHV環境における残留ガス分析のために設計・構成されています。
HALO201-MBE
HALOシステムは、RGA、ガス分析、およびリーク検出、トレンド分析、真空サーベイなどのプロセスモニタリング用途向けに設計されています。
EPIC-gauges
EPICおよびEPIC 1000シリーズは、高性能な残留ガス分析の適用範囲を、中性粒子、ラジカル、および正・負イオンにまで拡大しています。質量範囲の設定が可能で、ソフトイオン化機能を備えているため、このプラットフォームは、厳しい条件が求められるUHVおよびXHV環境下での表面科学や時間分解実験に適しています。

SURFACE ANALYSIS

表面分析

HIDEN ANALYTICAL社 モデルCompact SIMSは、層構造、表面汚染、不純物の迅速かつ容易なキャラクタリゼーションを目的として設計されており、正イオンの敏感な検出が酸素プライマリーイオンビームによって補助され、周期表全体にわたって同位体感度を提供します。提供するイオンソースの形状は、ナノメートルの深さ分解能および表面近傍分析に理想的です。
AutoSIMS
HIDEN ANALYTICAL社は、完全自立型の自動表面分析システム「AutoSIMS」を開発しました。これは、無人運転で日常的かつ反復的な分析を実行できる革新的な二次イオン質量分析計(SIMS)です。完全自動化されたX-Yステージと拡張ホルダーを備えたハイデンのAutoSIMSは、24時間365日の連続運転により、1日に数百件の処理を実行することができます。
SIMS-Workstation
HIDEN ANALYTICAL社は、高性能な動的および静的SIMS(二次イオン質量分析法)分析のための、極めて汎用性の高い高感度分析装置を提供しており、最先端のアプリケーションにおいて新たなレベルの精度を実現します。測定範囲が拡大され、正(+ve)イオンと負(-ve)イオンの両方を取得・同定できるこのSIMSワークステーションは、組成分析および深さプロファイリング用途向けの包括的なソリューションです。
SURFACE MODIFICATION
表面改質
Henniker Scientific社プラズマ処理システムとプロセスは、生産と研究において重要な役割を果たす多くの主要な組織から信頼されています。 低コストの実験用プラズマクリーナーから、学界や産業界向けのカスタムプラズマ処理システムまで、幅広い製品を提供しています。

APPLICATION

アプリケーション

既存のFIBシステムに高性能SIMS機能を追加
プラズマ分析、プラズマイオンアナライザおよびラングミュアプローブ
プラズマ分析、プラズマイオンアナライザおよびラングミュアプローブ
ガスおよび蒸気のリアルタイム分析用

関連する情報

導入の流れ

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修理・保守サービス

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